Intel, çip üretiminde yüksek sayısal açıklıklı (high-NA) EUV makinelerini şimdiden kullanmaya başladı. ABD'li şirket, bu teknolojiyi mobil bilişim cihazları için ürettiği Panther Lake işlemcilerin seri üretiminde Temmuz 2026 itibarıyla kullanıyor.
Sektör yol alırken Çin arayı kapatmaya çalışıyor
Samsung ve TSMC de şimdi Intel ve ASML ile birlikte çip üretiminde kullanılan ve silikon üzerine karmaşık devre desenlerini basan şablonlar olan fotomaske standardını 6 inçten 12 inçe çıkarmak için çalışıyor. ASML Teknoloji Direktörü Marco Pieters, Bloomberg'e yaptığı açıklamada, bu geçişin yüksek NA EUV makinelerinin çip üretim verimliliğini zamanla yüzde 40 oranında artırabileceğini belirtti.
Güney Koreli bellek çipi üreticisi SK Hynix de Bloomberg'e konuşan bir sözcüye göre, 12 inçlik fotomaske geçişini denetleyen endüstri konsorsiyumuna katılmayı değerlendiriyor. Tıpkı Samsung gibi SK Hynix de 2028 yılı itibarıyla yüksek NA EUV teknolojisini kullanarak bellek çipi üretimine başlamayı hedefliyor.
Yapay zeka balonu şişmeye devam ettiği sürece çip üretimindeki iyileşme şirketler için bir zorunluluk haline geldi. Teknoloji şirketlerinin yeni yapay zeka veri merkezleri kurma yarışı, küresel bir bellek çipi sıkıntısına yol açtı. Bu durum da akıllı telefon, dizüstü bilgisayar ve oyun makinelerinin fiyatlarını artırdı.
Öte yandan, ileri düzey çip üretimi için ASML makinelerinin önemi, ABD ve Çin arasındaki devam eden teknoloji rekabetinde kilit bir mesele haline geldi. ASML, Çinli Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) gibi şirketlere hala eski nesil derin ultraviyole litografi makineleri tedarik ediyor. Ancak Hollanda hükümetinin kısıtlamaları ve ABD'nin siyasi baskısı altında, çip üretim makinelerinin çoğunu Çin'e ihraç etmesi engellenmiş durumda.
Çin'in ASML'nin EUV litografi makinelerinden birini ele geçirdiğine dair kanıtlanmamış ABD hükümeti iddialarına rağmen, Çinli şirketler bu teknolojiyi ve bu tür makinelerin üretimini destekleyecek tedarik zincirini yerli olarak geliştirmede çok zorlu bir mücadele veriyor. ASML makinelerinde kullanılan aynaların ve optik sistemlerin münhasır tedarikçisi olan Almanya merkezli Zeiss Group'tan bir yönetici, kısa süre önce Çin'in EUV litografi makinelerini geliştirmesinin 15 yıl süreceğini öngördü.
Bu haber, EUV teknolojisinin derin ultraviyole litografi gibi eski teknolojilerle karşılaştırılmasındaki açıklamayı düzeltmek amacıyla 8 Eylül 2026 tarihinde güncellenmiştir.
